Tên sản phẩm: Thiết bị tổng hợp tẩy acid tự động

Mô tả sản phẩm:

• Công suất siêu lớn 1600 tấm（125*125、156*156）/giờ
• Dùng dung dịch phối hợp tự động mới nhất thế hệ thứ tư, kỹ thuật bổ sung dung dịch, giải pháp chống acid, chống ăn mòn toàn diện, bảo vệ đến từng góc của máy.
• Kỹ thuật bổ sung dung dịch tự động mới nhất.
• Kỹ thuật xử lý lau khô silicon độc đáo, bảo đảm silicon lau khô không để lại bất kỳ vết nước nào
• Công nghệ lau khô silicon thành thạo, tập hợp các kỹ thuật tiên tiến.
• Thao tác giao diện người máy màn hình màu lớn, tiện thiết lập tham số và chuyển đổi đa công nghệ.
• Tay máy di chuyển tốc độ cao dùng chương trình hỗ trợ Panasonic điều khiển, có các đặc điểm như tốc độ cao, chống nén, tự động trả về vị trí đúng, giữ chặt cố định 4 điểm, móc giữ rổ…

Tên sản phẩm: Thiết bị rửa thủy tinh loại bỏ photpho, silicon (PSG) tự động

Mô tả sản phẩm

• Công suất siêu lớn 2400 tấm（125*125、156*156）/giờ
• Áp dụng kỹ thuật mới nhất thế hệ thứ tư, giải pháp chống acid, chống ăn mòn toàn diện, bảo vệ đến từng góc của máy.
• Kỹ thuật xử lý lau khô silicon độc đáo, bảo đảm silicon lau khô không để lại bất kỳ vết nước nào
• Công nghệ lau khô silicon thành thạo, tập hợp các kỹ thuật tiên tiến.
• Thao tác giao diện người máy màn hình màu lớn, tiện thiết lập tham số và chuyển đổi đa công nghệ.
• Tay máy di chuyển tốc độ cao dùng chương trình hỗ trợ Panasonic điều khiển, có các đặc điểm như tốc độ cao, chống nén, tự động trả về vị trí đúng, giữ chặt cố định 4 điểm, móc giữ rổ…

Tên sản phẩm: Thiết bị khắc acid ướt

Mô tả sản phẩm

• Dùng khắc acid silicon đa tinh thể 125*125 và 156*156.
• Thiết kế 5 đường đi qua, đáp ứng công suất hiệu quả cao.
• Thiết kế trục lăn chuyển động tinh tế cao, đảm bảo tính nhất quán của chip vận hành và giảm thiểu tỷ lệ mảnh vụn.
• Kết cấu máy nhỏ gọn, đơn giản, dễ bảo trì
• Thiết kế nhập dung dịch đặc biệt, đảm bảo tính đồng đều của dung dịch trong thùng chính.
• Thiết bị có lắp đặt hệ thống hút gió có hiệu quả, ngăn chặn sự rò rỉ của khí acid, đồng thời đảm bảo bề mặt của tấm sau khi khắc acid không có bất kỳ ô nhiễm nào.